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反射光譜薄膜測厚儀
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便攜式探頭
測量曲面樣品或樣品無法移動時,需要用到特殊的探頭,這些探頭包裹一層柔性橡膠,可以直接放到樣品上面,用光纖將其與主機相連?;?/span>不同的應用,有三個型號可選。
測量曲面樣品或樣品無法移動時,需要用到特殊的探頭,這些探頭包裹一層柔性橡膠,可以直接放到樣品上面,用光纖將其與主機相連?;诓煌膽?,有三個型號可選。
MP-FLVi:用于基底較薄且透光的薄膜,需要消除背面反射
MP-RP90:用于可接受2mm光斑直徑及不需要考慮背面反射的樣品
MP-RP45:可用45度測量厚度

MP-FLVis
包含可見光聚焦鏡頭,0.4mm光斑直徑
MP-RP90
2mm光斑直徑,光譜范圍較寬

MP-RP45
包含兩個石英準直器,以45度角測量樣品
我們樂意為您進行免費樣品測量,歡迎來電咨詢。
美國Semiconsoft中國總代理 上海全耀儀器設備有限公司
Email:info@filmgauge.com.cn
上海全耀代理產品:膜厚測量儀,薄膜測試儀,膜厚儀,厚度測量儀以及MProbe MSP顯微薄膜測試儀等,歡迎廣大用戶前來訂購。
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MProbe NIR薄膜測厚儀
采用近紅外光譜(NIR)的測厚儀可以用于測量一些可見光和紫外光無法使用的應用領域,比如在可見光范圍內有吸收的太陽能薄膜(CIGS, CdTe)可以快速的測量。 測量范圍: 100 nm -200um 波長范圍: 900 nm -2500 nm 適用于實時在線測量,多層測量,非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(超過500材料),新材料可以很容易的添加,支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等 測量指標:薄膜厚度,光學常數 界面友好強大: 一鍵式測量和分析。 實用的工具:曲線擬合和靈敏度分析,背景和變形校正,連接層和材料,多樣品測量,動態測量和產線批量處理。 (MProble NIR薄膜測厚儀系統示) 系統性能參數: 精度 <0.01nm or 0.01% 準確度 <0.2%or 1 nm 穩定性 <0.02nmor 0.03% 光斑直徑 標準3mm, 可以小至3um 樣品大小 大于1 mm 技術參數: 測量范圍 100nm-200um 精度 <0.01nmor 0.01% 準確度 <0.2%or 1 nm 穩定性 <0.02nmor 0.03% 波長范圍 NIR: 900-1700 NIRX: 900-2200 NIRX2:1550-2500nm ...
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MProbe RT薄膜測厚儀
該機大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩定的被測量。比如:氧化物,氮化物,光刻膠,高分子聚合物,半導體(硅,單晶硅,多晶硅),半導體化合物(AlGaAs, InGaAs,CdTe, CIGS),硬涂層(碳化硅,類金剛石炭),聚合物涂層(聚對二甲苯,聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺) 測量范圍: 1 nm -20um(UVVis),1nm-150um(UVVisNIR) 波長范圍: 200 nm -1000 nm(UVVis) 200nm-1700nm(UVVisNIR) 適用于實時在線測量,多層測量,非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(超過500材料),新材料可以很容易的添加,支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等; 藍寶石基底上1025nm厚度的氧化物薄膜的反射率和透射率,波長范圍(200-1700nm): 系統性能參數: 精度 <0.1nm or 0.01% 準確度 <0.2%or 1 nm 穩定性 <0.05nmor 0.03% 光斑直徑 標準2mm, 可以小至3um 樣品大小 大于1 mm 測量指標:薄膜厚度,光學常數 界面友好強大: 一鍵式測量和分析。 實用的工具:曲線擬合和靈敏度分析,背景和變形校正,連接層和材料,多樣品測量,動態測量和產線批量處理。 技術參數: 測量范圍 ...
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MProbe Vis薄膜測厚儀
大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩定的被MProbe Vis測厚儀測量。比如:氧化物,氮化物,光刻膠,高分子聚合物,半導體(硅,單晶硅,多晶硅),半導體化合物(AlGaAs, InGaAs,CdTe, CIGS),硬涂層(碳化硅,類金剛石炭),聚合物涂層(聚對二甲苯,聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺)。 測量范圍: 15 nm -50um 波長范圍: 400 nm -1100 nm MProbe Vis薄膜測厚儀適用于實時在線測量,多層測量,非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(超過500材料),新材料可以很容易的添加,支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等。 測量指標:薄膜厚度,光學常數 界面友好強大: 一鍵式測量和分析。 MProbe Vis薄膜測厚儀實用的工具:曲線擬合和靈敏度分析,背景和變形校正,連接層和材料,多樣品測量,動態測量和產線批量處理。 (MProble NIR薄膜測厚儀系統示) 性能參數: 精度 <0.01nm or0.01% 準確度 <0.2% or 1 nm 穩定性 <0.02nm or 0.03% 光斑直徑 標準3mm, 可以小至3um 樣品大小 大于1 mm 案例1,300nm二氧化硅薄膜的測量: 硅晶圓反射率,測量時間10ms: 案例2,測量500nm氮化鋁,測量參數:厚度和表面粗糙...
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MProbe系列薄膜測厚儀
當一束光入射到薄膜表面時,薄膜上表面和下表面的反射光會發生干涉,干涉的發生與薄膜厚度及光學常數等有關,反射光譜薄膜測厚儀就是基于此原理來測量薄膜厚度。 反射光譜干涉法是一種非接觸式、無損的、精確且快速的光學薄膜厚度測量技術。 測量范圍: 1 nm - 1 mm 波長范圍: 200 nm -8000 nm 光斑尺寸:2mum -3 um 產品特點: a. 最高的測量精度:0.01nm或0.01% b. 準確度:1nm或0.2% c. 穩定性:0.02nm或0.02% d. 強大的軟件材料庫,包含500多種材料的光學常數 e. 通過Modbus TCP或OPC協議,與其他設備聯用 適用于實時在線測量,多層測量,非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(超過500材料),新材料可以很容易的添加,支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等 大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩定的被測量。比如:氧化物,氮化物,光刻膠,高分子聚合物,半導體(硅,單晶硅,多晶硅),半導體化合物(AlGaAs, InGaAs,CdTe, CIGS),硬涂層(碳化硅,類金剛石炭),聚合物涂層(聚對二甲苯,聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺) 標準配置中包含: 1. 主機(光譜儀,光源,電線) 2. 反射光纖 3. 樣品臺及光纖適配器 4. TFCompanion軟件 5. 校準套裝 6. 測試樣品,200nm...