采用近紅外光譜(NIR)的測厚儀可以用于測量一些可見光和紫外光無法使用的應用領域，比如在可見光范圍內有吸收的太陽能薄膜(CIGS, CdTe)可以快速的測量。 測量范圍: 100 nm -200um 波長范圍: 900 nm -2500 nm 適用于實時在線測量，多層測量，非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(超過500材料)，新材料可以很容易的添加，支持多重算法：Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等 測量指標：薄膜厚度，光學常數 界面友好強大: 一鍵式測量和分析。 實用的工具：曲線擬合和靈敏度分析，背景和變形校正，連接層和材料，多樣品測量，動態測量和產線批量處理。 （MProble NIR薄膜測厚儀系統示） 系統性能參數： 精度 <0.01nm or 0.01% 準確度 <0.2%or 1 nm 穩定性 <0.02nmor 0.03% 光斑直徑 標準3mm, 可以小至3um 樣品大小 大于1 mm 技術參數： 測量范圍 100nm-200um 精度 <0.01nmor 0.01% 準確度 <0.2%or 1 nm 穩定性 <0.02nmor 0.03% 波長范圍 NIR: 900-1700 NIRX: 900-2200 NIRX2:1550-2500nm ...

該機大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩定的被測量。比如：氧化物，氮化物，光刻膠，高分子聚合物，半導體(硅，單晶硅，多晶硅)，半導體化合物(AlGaAs, InGaAs，CdTe, CIGS)，硬涂層(碳化硅，類金剛石炭)，聚合物涂層(聚對二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺) 測量范圍: 1 nm -20um(UVVis)，1nm-150um(UVVisNIR) 波長范圍: 200 nm -1000 nm(UVVis) 200nm-1700nm(UVVisNIR) 適用于實時在線測量，多層測量，非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(超過500材料)，新材料可以很容易的添加，支持多重算法：Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等； 藍寶石基底上1025nm厚度的氧化物薄膜的反射率和透射率，波長范圍(200-1700nm)： 系統性能參數： 精度 <0.1nm or 0.01% 準確度 <0.2%or 1 nm 穩定性 <0.05nmor 0.03% 光斑直徑 標準2mm, 可以小至3um 樣品大小 大于1 mm 測量指標：薄膜厚度，光學常數 界面友好強大: 一鍵式測量和分析。 實用的工具：曲線擬合和靈敏度分析，背景和變形校正，連接層和材料，多樣品測量，動態測量和產線批量處理。 技術參數： 測量范圍 ...

大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩定的被MProbe Vis測厚儀測量。比如：氧化物，氮化物，光刻膠，高分子聚合物，半導體(硅，單晶硅，多晶硅)，半導體化合物(AlGaAs, InGaAs，CdTe, CIGS)，硬涂層(碳化硅，類金剛石炭)，聚合物涂層(聚對二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺)。 測量范圍: 15 nm -50um 波長范圍: 400 nm -1100 nm MProbe Vis薄膜測厚儀適用于實時在線測量，多層測量，非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(超過500材料)，新材料可以很容易的添加，支持多重算法：Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等。 測量指標：薄膜厚度，光學常數 界面友好強大: 一鍵式測量和分析。 MProbe Vis薄膜測厚儀實用的工具：曲線擬合和靈敏度分析，背景和變形校正，連接層和材料，多樣品測量，動態測量和產線批量處理。 （MProble NIR薄膜測厚儀系統示） 性能參數： 精度 <0.01nm or0.01% 準確度 <0.2% or 1 nm 穩定性 <0.02nm or 0.03% 光斑直徑 標準3mm, 可以小至3um 樣品大小 大于1 mm 案例1，300nm二氧化硅薄膜的測量： 硅晶圓反射率，測量時間10ms： 案例2，測量500nm氮化鋁，測量參數：厚度和表面粗糙...

當一束光入射到薄膜表面時，薄膜上表面和下表面的反射光會發生干涉，干涉的發生與薄膜厚度及光學常數等有關，反射光譜薄膜測厚儀就是基于此原理來測量薄膜厚度。 反射光譜干涉法是一種非接觸式、無損的、精確且快速的光學薄膜厚度測量技術。 測量范圍: 1 nm - 1 mm 波長范圍: 200 nm -8000 nm 光斑尺寸:2mum -3 um 產品特點： a. 最高的測量精度：0.01nm或0.01% b. 準確度：1nm或0.2% c. 穩定性：0.02nm或0.02% d. 強大的軟件材料庫，包含500多種材料的光學常數 e. 通過Modbus TCP或OPC協議，與其他設備聯用 適用于實時在線測量，多層測量，非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(超過500材料)，新材料可以很容易的添加，支持多重算法：Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等 大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩定的被測量。比如：氧化物，氮化物，光刻膠，高分子聚合物，半導體(硅，單晶硅，多晶硅)，半導體化合物(AlGaAs, InGaAs，CdTe, CIGS)，硬涂層(碳化硅，類金剛石炭)，聚合物涂層(聚對二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺) 標準配置中包含： 1. 主機(光譜儀，光源，電線) 2. 反射光纖 3. 樣品臺及光纖適配器 4. TFCompanion軟件 5. 校準套裝 6. 測試樣品，200nm...