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反射光譜薄膜測厚儀
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MProbe RT薄膜測厚儀
參考價格：15-20萬
大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩定的被測量。比如：氧化物，氮化物，光刻膠，高分子聚合物，半導體(硅，單晶硅，多晶硅)，半導體化合物(AlGaAs, InGaAs，CdTe, CIGS)，硬涂層(碳化硅，類金剛石炭)，聚合物涂層(聚對二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺)
該機大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩定的被測量。比如：氧化物，氮化物，光刻膠，高分子聚合物，半導體(硅，單晶硅，多晶硅)，半導體化合物(AlGaAs, InGaAs，CdTe, CIGS)，硬涂層(碳化硅，類金剛石炭)，聚合物涂層(聚對二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺)
測量范圍: 1 nm -20um(UVVis)，1nm-150um(UVVisNIR)
波長范圍: 200 nm -1000 nm(UVVis)
200nm-1700nm(UVVisNIR)
適用于實時在線測量，多層測量，非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(超過500材料)，新材料可以很容易的添加，支持多重算法：Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等；
藍寶石基底上1025nm厚度的氧化物薄膜的反射率和透射率，波長范圍(200-1700nm)：
系統性能參數：
| 精度 | <0.1nm or 0.01% |
| 準確度 | <0.2% or 1 nm |
| 穩定性 | <0.05nm or 0.03% |
| 光斑直徑 | 標準2mm, 可以小至3um |
| 樣品大小 | 大于1 mm |
測量指標：薄膜厚度，光學常數
界面友好強大: 一鍵式測量和分析。
實用的工具：曲線擬合和靈敏度分析，背景和變形校正，連接層和材料，多樣品測量，動態測量和產線批量處理。
技術參數：
| 測量范圍 | 1nm-50um 或1nm-150um |
| 精度 | <0.1nm or 0.01% |
| 準確度 | <0.2% or 1 nm |
| 穩定性 | <0.05nm or 0.03% |
| 波長范圍 | 200-1000nm 或 200-1700nm |
| 光譜儀和檢測器 | F4光譜儀，3600像素CCD檢測器，16位深 |
| F3光譜儀，512像素InGaAs 檢測器 | |
| 光譜分辨率 | 2nm（UVVis），4nm（NIR） |
| 光源 | 20W鹵鎢燈（添加氙），色溫3100，壽命：2000小時 |
（內部結構示意圖）
我們樂意為您進行免費樣品測量，歡迎來電咨詢。
美國Semiconsoft中國總代理 上海全耀儀器設備有限公司
Email：info@filmgauge.com.cn
上海全耀代理產品：膜厚測量儀，薄膜測試儀，膜厚儀，厚度測量儀以及MProbe MSP顯微薄膜測試儀等，歡迎廣大用戶前來訂購。
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MProbe Vis薄膜測厚儀
大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩定的被MProbe Vis測厚儀測量。比如：氧化物，氮化物，光刻膠，高分子聚合物，半導體(硅，單晶硅，多晶硅)，半導體化合物(AlGaAs, InGaAs，CdTe, CIGS)，硬涂層(碳化硅，類金剛石炭)，聚合物涂層(聚對二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺)。 測量范圍: 15 nm -50um 波長范圍: 400 nm -1100 nm MProbe Vis薄膜測厚儀適用于實時在線測量，多層測量，非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(超過500材料)，新材料可以很容易的添加，支持多重算法：Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等。 測量指標：薄膜厚度，光學常數 界面友好強大: 一鍵式測量和分析。 MProbe Vis薄膜測厚儀實用的工具：曲線擬合和靈敏度分析，背景和變形校正，連接層和材料，多樣品測量，動態測量和產線批量處理。 （MProble NIR薄膜測厚儀系統示） 性能參數： 精度 <0.01nm or0.01% 準確度 <0.2% or 1 nm 穩定性 <0.02nm or 0.03% 光斑直徑 標準3mm, 可以小至3um 樣品大小 大于1 mm 案例1，300nm二氧化硅薄膜的測量： 硅晶圓反射率，測量時間10ms： 案例2，測量500nm氮化鋁，測量參數：厚度和表面粗糙...
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MProbe UVVisSR薄膜測厚儀
該機大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩定的被測量。比如：氧化物，氮化物，光刻膠，高分子聚合物，半導體(硅，單晶硅，多晶硅)，半導體化合物(AlGaAs, InGaAs，CdTe, CIGS)，硬涂層(碳化硅，類金剛石炭)，聚合物涂層(聚對二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺) 測量范圍: 1 nm -50um 波長范圍: 200 nm -1000 nm MProbe UVVisSR薄膜測厚儀適用于實時在線測量，多層測量，非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(超過500材料)，新材料可以很容易的添加，支持多重算法：Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等。 測量指標：薄膜厚度，光學常數 界面友好強大: 一鍵式測量和分析。 實用的工具：曲線擬合和靈敏度分析，背景和變形校正，連接層和材料，多樣品測量，動態測量和產線批量處理。 （MProble NIR薄膜測厚儀系統示 ） 系統性能參數： 精度 <0.01nm or 0.01% 準確度 <0.2%or 1 nm 穩定性 <0.02nmor 0.03% 光斑直徑 標準3mm, 可以小至3um 樣品大小 大于1 mm 案例1，73nm SiN氮化硅薄膜的測量 硅晶圓反射率，測量時間10ms 使用Tauc-Lorentz模型，測量SiN薄膜的n和k值 技術參數： 測量范圍 100nm-2...
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便攜式探頭
測量曲面樣品或樣品無法移動時，需要用到特殊的探頭，這些探頭包裹一層柔性橡膠，可以直接放到樣品上面，用光纖將其與主機相連?；诓煌膽?，有三個型號可選。 MP-FLVi：用于基底較薄且透光的薄膜，需要消除背面反射 MP-RP90：用于可接受2mm光斑直徑及不需要考慮背面反射的樣品 MP-RP45：可用45度測量厚度 MP-FLVis 包含可見光聚焦鏡頭，0.4mm光斑直徑 MP-RP90 2mm光斑直徑，光譜范圍較寬 MP-RP45 包含兩個石英準直器，以45度角測量樣品 我們樂意為您進行免費樣品測量，歡迎來電咨詢。 美國Semiconsoft中國總代理 上海全耀儀器設備有限公司 全國咨詢熱線：400-992-5592 Email：info@filmgauge.com.cn 上海全耀代理產品：膜厚測量儀，薄膜測試儀，膜厚儀，厚度測量儀以及MProbe MSP顯微薄膜測試儀等，歡迎廣大用戶前來訂購。
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MProbe系列薄膜測厚儀
當一束光入射到薄膜表面時，薄膜上表面和下表面的反射光會發生干涉，干涉的發生與薄膜厚度及光學常數等有關，反射光譜薄膜測厚儀就是基于此原理來測量薄膜厚度。 反射光譜干涉法是一種非接觸式、無損的、精確且快速的光學薄膜厚度測量技術。 測量范圍: 1 nm - 1 mm 波長范圍: 200 nm -8000 nm 光斑尺寸:2mum -3 um 產品特點： a. 最高的測量精度：0.01nm或0.01% b. 準確度：1nm或0.2% c. 穩定性：0.02nm或0.02% d. 強大的軟件材料庫，包含500多種材料的光學常數 e. 通過Modbus TCP或OPC協議，與其他設備聯用 適用于實時在線測量，多層測量，非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(超過500材料)，新材料可以很容易的添加，支持多重算法：Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等 大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩定的被測量。比如：氧化物，氮化物，光刻膠，高分子聚合物，半導體(硅，單晶硅，多晶硅)，半導體化合物(AlGaAs, InGaAs，CdTe, CIGS)，硬涂層(碳化硅，類金剛石炭)，聚合物涂層(聚對二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺) 標準配置中包含： 1. 主機(光譜儀，光源，電線) 2. 反射光纖 3. 樣品臺及光纖適配器 4. TFCompanion軟件 5. 校準套裝 6. 測試樣品，200nm...
