產品中心
products center
行業應用 · Application
最新新聞· Latest News

聯系我們
聯系人:黃先生
電 話:400-992-5592
郵 箱:info@filmgauge.com.cn
地 址:上海市嘉定區瀏翔公路955號1號樓A座
您的當前位置:全耀首頁 > 產品中心 > 反射光譜薄膜測厚儀 > MProbe RT薄膜測厚儀
反射光譜薄膜測厚儀
[返回列表]

MProbe RT薄膜測厚儀
參考價格:15-20萬
大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩定的被測量。比如:氧化物,氮化物,光刻膠,高分子聚合物,半導體(硅,單晶硅,多晶硅),半導體化合物(AlGaAs, InGaAs,CdTe, CIGS),硬涂層(碳化硅,類金剛石炭),聚合物涂層(聚對二甲苯,聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺)
該機大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩定的被測量。比如:氧化物,氮化物,光刻膠,高分子聚合物,半導體(硅,單晶硅,多晶硅),半導體化合物(AlGaAs, InGaAs,CdTe, CIGS),硬涂層(碳化硅,類金剛石炭),聚合物涂層(聚對二甲苯,聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺)
測量范圍: 1 nm -20um(UVVis),1nm-150um(UVVisNIR)
波長范圍: 200 nm -1000 nm(UVVis)
200nm-1700nm(UVVisNIR)
適用于實時在線測量,多層測量,非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(超過500材料),新材料可以很容易的添加,支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等;
藍寶石基底上1025nm厚度的氧化物薄膜的反射率和透射率,波長范圍(200-1700nm):
系統性能參數:
精度 | <0.1nm or 0.01% |
準確度 | <0.2% or 1 nm |
穩定性 | <0.05nm or 0.03% |
光斑直徑 | 標準2mm, 可以小至3um |
樣品大小 | 大于1 mm |
測量指標:薄膜厚度,光學常數
界面友好強大: 一鍵式測量和分析。
實用的工具:曲線擬合和靈敏度分析,背景和變形校正,連接層和材料,多樣品測量,動態測量和產線批量處理。
技術參數:
測量范圍 | 1nm-50um 或1nm-150um |
精度 | <0.1nm or 0.01% |
準確度 | <0.2% or 1 nm |
穩定性 | <0.05nm or 0.03% |
波長范圍 | 200-1000nm 或 200-1700nm |
光譜儀和檢測器 | F4光譜儀,3600像素CCD檢測器,16位深 |
F3光譜儀,512像素InGaAs 檢測器 | |
光譜分辨率 | 2nm(UVVis),4nm(NIR) |
光源 | 20W鹵鎢燈(添加氙),色溫3100,壽命:2000小時 |
(內部結構示意圖)
我們樂意為您進行免費樣品測量,歡迎來電咨詢。
美國Semiconsoft中國總代理 上海全耀儀器設備有限公司
Email:info@filmgauge.com.cn
上海全耀代理產品:膜厚測量儀,薄膜測試儀,膜厚儀,厚度測量儀以及MProbe MSP顯微薄膜測試儀等,歡迎廣大用戶前來訂購。
上一個產品: MProbe UVVisSR薄膜測厚儀
下一個產品: MProbe NIR薄膜測厚儀
-
MProbe Vis薄膜測厚儀
大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩定的被MProbe Vis測厚儀測量。比如:氧化物,氮化物,光刻膠,高分子聚合物,半導體(硅,單晶硅,多晶硅),半導體化合物(AlGaAs, InGaAs,CdTe, CIGS),硬涂層(碳化硅,類金剛石炭),聚合物涂層(聚對二甲苯,聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺)。 測量范圍: 15 nm -50um 波長范圍: 400 nm -1100 nm MProbe Vis薄膜測厚儀適用于實時在線測量,多層測量,非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(超過500材料),新材料可以很容易的添加,支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等。 測量指標:薄膜厚度,光學常數 界面友好強大: 一鍵式測量和分析。 MProbe Vis薄膜測厚儀實用的工具:曲線擬合和靈敏度分析,背景和變形校正,連接層和材料,多樣品測量,動態測量和產線批量處理。 (MProble NIR薄膜測厚儀系統示) 性能參數: 精度 <0.01nm or0.01% 準確度 <0.2% or 1 nm 穩定性 <0.02nm or 0.03% 光斑直徑 標準3mm, 可以小至3um 樣品大小 大于1 mm 案例1,300nm二氧化硅薄膜的測量: 硅晶圓反射率,測量時間10ms: 案例2,測量500nm氮化鋁,測量參數:厚度和表面粗糙...
-
MProbe UVVisSR薄膜測厚儀
該機大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩定的被測量。比如:氧化物,氮化物,光刻膠,高分子聚合物,半導體(硅,單晶硅,多晶硅),半導體化合物(AlGaAs, InGaAs,CdTe, CIGS),硬涂層(碳化硅,類金剛石炭),聚合物涂層(聚對二甲苯,聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺) 測量范圍: 1 nm -50um 波長范圍: 200 nm -1000 nm MProbe UVVisSR薄膜測厚儀適用于實時在線測量,多層測量,非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(超過500材料),新材料可以很容易的添加,支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等。 測量指標:薄膜厚度,光學常數 界面友好強大: 一鍵式測量和分析。 實用的工具:曲線擬合和靈敏度分析,背景和變形校正,連接層和材料,多樣品測量,動態測量和產線批量處理。 (MProble NIR薄膜測厚儀系統示 ) 系統性能參數: 精度 <0.01nm or 0.01% 準確度 <0.2%or 1 nm 穩定性 <0.02nmor 0.03% 光斑直徑 標準3mm, 可以小至3um 樣品大小 大于1 mm 案例1,73nm SiN氮化硅薄膜的測量 硅晶圓反射率,測量時間10ms 使用Tauc-Lorentz模型,測量SiN薄膜的n和k值 技術參數: 測量范圍 100nm-2...
-
便攜式探頭
測量曲面樣品或樣品無法移動時,需要用到特殊的探頭,這些探頭包裹一層柔性橡膠,可以直接放到樣品上面,用光纖將其與主機相連?;诓煌膽?,有三個型號可選。 MP-FLVi:用于基底較薄且透光的薄膜,需要消除背面反射 MP-RP90:用于可接受2mm光斑直徑及不需要考慮背面反射的樣品 MP-RP45:可用45度測量厚度 MP-FLVis 包含可見光聚焦鏡頭,0.4mm光斑直徑 MP-RP90 2mm光斑直徑,光譜范圍較寬 MP-RP45 包含兩個石英準直器,以45度角測量樣品 我們樂意為您進行免費樣品測量,歡迎來電咨詢。 美國Semiconsoft中國總代理 上海全耀儀器設備有限公司 全國咨詢熱線:400-992-5592 Email:info@filmgauge.com.cn 上海全耀代理產品:膜厚測量儀,薄膜測試儀,膜厚儀,厚度測量儀以及MProbe MSP顯微薄膜測試儀等,歡迎廣大用戶前來訂購。
-
MProbe系列薄膜測厚儀
當一束光入射到薄膜表面時,薄膜上表面和下表面的反射光會發生干涉,干涉的發生與薄膜厚度及光學常數等有關,反射光譜薄膜測厚儀就是基于此原理來測量薄膜厚度。 反射光譜干涉法是一種非接觸式、無損的、精確且快速的光學薄膜厚度測量技術。 測量范圍: 1 nm - 1 mm 波長范圍: 200 nm -8000 nm 光斑尺寸:2mum -3 um 產品特點: a. 最高的測量精度:0.01nm或0.01% b. 準確度:1nm或0.2% c. 穩定性:0.02nm或0.02% d. 強大的軟件材料庫,包含500多種材料的光學常數 e. 通過Modbus TCP或OPC協議,與其他設備聯用 適用于實時在線測量,多層測量,非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(超過500材料),新材料可以很容易的添加,支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等 大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩定的被測量。比如:氧化物,氮化物,光刻膠,高分子聚合物,半導體(硅,單晶硅,多晶硅),半導體化合物(AlGaAs, InGaAs,CdTe, CIGS),硬涂層(碳化硅,類金剛石炭),聚合物涂層(聚對二甲苯,聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺) 標準配置中包含: 1. 主機(光譜儀,光源,電線) 2. 反射光纖 3. 樣品臺及光纖適配器 4. TFCompanion軟件 5. 校準套裝 6. 測試樣品,200nm...