MAI顯微鏡適配器，可與任何一臺正置顯微聯用，將MProble系列測厚儀加到顯微鏡上，用于微小樣品的厚度測量，包含一個200萬像素CCD，可對測量區域進行成像。 尺寸 100mm x 40mm x 30mm 重量 0.5kg 顯微鏡接口 C型接口 相機 200萬像素 通訊 USB連接 電源 USB供電 （MAI顯微鏡適配器示意圖） （測量區域拍照，十字線中點為測量點） 我們樂意為您進行免費樣品測量，歡迎來電咨詢。 美國Semiconsoft中國總代理 上海全耀儀器設備有限公司 全國咨詢熱線：400-992-5592 Email：info@filmgauge.com.cn 上海全耀代理產品：膜厚測量儀，薄膜測試儀，膜厚儀，厚度測量儀以及MProbe MSP顯微薄膜測試儀等，歡迎廣大用戶前來訂購。

測量曲面樣品或樣品無法移動時，需要用到特殊的探頭，這些探頭包裹一層柔性橡膠，可以直接放到樣品上面，用光纖將其與主機相連?；诓煌膽?，有三個型號可選。 MP-FLVi：用于基底較薄且透光的薄膜，需要消除背面反射 MP-RP90：用于可接受2mm光斑直徑及不需要考慮背面反射的樣品 MP-RP45：可用45度測量厚度 MP-FLVis 包含可見光聚焦鏡頭，0.4mm光斑直徑 MP-RP90 2mm光斑直徑，光譜范圍較寬 MP-RP45 包含兩個石英準直器，以45度角測量樣品 我們樂意為您進行免費樣品測量，歡迎來電咨詢。 美國Semiconsoft中國總代理 上海全耀儀器設備有限公司 全國咨詢熱線：400-992-5592 Email：info@filmgauge.com.cn 上海全耀代理產品：膜厚測量儀，薄膜測試儀，膜厚儀，厚度測量儀以及MProbe MSP顯微薄膜測試儀等，歡迎廣大用戶前來訂購。

采用近紅外光譜(NIR)的測厚儀可以用于測量一些可見光和紫外光無法使用的應用領域，比如在可見光范圍內有吸收的太陽能薄膜(CIGS, CdTe)可以快速的測量。 測量范圍: 100 nm -200um 波長范圍: 900 nm -2500 nm 適用于實時在線測量，多層測量，非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(超過500材料)，新材料可以很容易的添加，支持多重算法：Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等 測量指標：薄膜厚度，光學常數 界面友好強大: 一鍵式測量和分析。 實用的工具：曲線擬合和靈敏度分析，背景和變形校正，連接層和材料，多樣品測量，動態測量和產線批量處理。 （MProble NIR薄膜測厚儀系統示） 系統性能參數： 精度 <0.01nm or 0.01% 準確度 <0.2%or 1 nm 穩定性 <0.02nmor 0.03% 光斑直徑 標準3mm, 可以小至3um 樣品大小 大于1 mm 技術參數： 測量范圍 100nm-200um 精度 <0.01nmor 0.01% 準確度 <0.2%or 1 nm 穩定性 <0.02nmor 0.03% 波長范圍 NIR: 900-1700 NIRX: 900-2200 NIRX2:1550-2500nm ...

大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩定的被MProbe Vis測厚儀測量。比如：氧化物，氮化物，光刻膠，高分子聚合物，半導體(硅，單晶硅，多晶硅)，半導體化合物(AlGaAs, InGaAs，CdTe, CIGS)，硬涂層(碳化硅，類金剛石炭)，聚合物涂層(聚對二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺)。 測量范圍: 15 nm -50um 波長范圍: 400 nm -1100 nm MProbe Vis薄膜測厚儀適用于實時在線測量，多層測量，非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(超過500材料)，新材料可以很容易的添加，支持多重算法：Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等。 測量指標：薄膜厚度，光學常數 界面友好強大: 一鍵式測量和分析。 MProbe Vis薄膜測厚儀實用的工具：曲線擬合和靈敏度分析，背景和變形校正，連接層和材料，多樣品測量，動態測量和產線批量處理。 （MProble NIR薄膜測厚儀系統示） 性能參數： 精度 <0.01nm or0.01% 準確度 <0.2% or 1 nm 穩定性 <0.02nm or 0.03% 光斑直徑 標準3mm, 可以小至3um 樣品大小 大于1 mm 案例1，300nm二氧化硅薄膜的測量： 硅晶圓反射率，測量時間10ms： 案例2，測量500nm氮化鋁，測量參數：厚度和表面粗糙...