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反射光譜薄膜測厚儀
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MProbe UVVisSR薄膜測厚儀
參考價格:15-20萬
MProbe UVVisSR薄膜測厚儀大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩定的被測量。比如:氧化物,氮化物,光刻膠,高分子聚合物,半導體(硅,單晶硅,多晶硅),半導體化合物(AlGaAs, InGaAs,CdTe, CIGS),硬涂層(碳化硅,類金剛石炭),聚合物涂層(聚對二甲苯,聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺)
該機大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩定的被測量。比如:氧化物,氮化物,光刻膠,高分子聚合物,半導體(硅,單晶硅,多晶硅),半導體化合物(AlGaAs, InGaAs,CdTe, CIGS),硬涂層(碳化硅,類金剛石炭),聚合物涂層(聚對二甲苯,聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺)
測量范圍: 1 nm -50um
波長范圍: 200 nm -1000 nm
MProbe UVVisSR薄膜測厚儀適用于實時在線測量,多層測量,非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(超過500材料),新材料可以很容易的添加,支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等。
測量指標:薄膜厚度,光學常數
界面友好強大: 一鍵式測量和分析。
實用的工具:曲線擬合和靈敏度分析,背景和變形校正,連接層和材料,多樣品測量,動態測量和產線批量處理。
(MProble NIR薄膜測厚儀系統示 )
系統性能參數:
精度 | <0.01nm or 0.01% |
準確度 | <0.2% or 1 nm |
穩定性 | <0.02nm or 0.03% |
光斑直徑 | 標準3mm, 可以小至3um |
樣品大小 | 大于1 mm |
案例1,73nm SiN氮化硅薄膜的測量
硅晶圓反射率,測量時間10ms
使用Tauc-Lorentz模型,測量SiN薄膜的n和k值
技術參數:
測量范圍 | 100nm-200um |
精度 | <0.01nm or 0.01% |
準確度 | <0.2% or 1 nm |
穩定性 | <0.02nm or 0.03% |
波長范圍 | NIR: 900-1700 |
NIRX: 900-2200 | |
NIRX2:1550-2500nm | |
光譜儀和檢測器 | F4光譜儀,256/512/1024像素InGaAs PDA檢測器,16位深,TE制冷,高靈敏度,高動態范圍,信噪比:大于6000 |
光譜分辨率 | 小于4nm(512像素) |
光源 | 5W鹵鎢燈,色溫2800,壽命:10000小時 |
反射探頭 | 光導光纖(7個纖芯),纖芯400um |
可選硬件模塊 |
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FLUVNIR | 紫外可見近紅外聚焦透鏡(CaF2/Quartz),工作距離25mm,光斑直徑小于80um |
FLUV | 石英聚焦透鏡,工作距離:35mm,光斑直徑:小于0.5mm |
FDHolder | 面向下面樣品適配器,用于透明樣品 |
TO | 透射率測量模塊 |
TO Switch | 2個通道轉換器,用于反射率和透射率測量 |
20W | 20W鹵鎢燈(色溫3100,壽命2000小時) |
TR | 5V TTL外觸發模塊,1個外部in觸發,啟動測量,6路out觸發 |
HR | 光譜分別率升級到1nm |
可選軟件模塊 | |
MOD | 遠程控制(TCP),基于Modbus協議 |
KM | 動態測量模塊,設定時間間隔,用于在線測量 |
我們樂意為您進行免費樣品測量,歡迎來電咨詢。
美國Semiconsoft中國總代理 上海全耀儀器設備有限公司
Email:info@filmgauge.com.cn
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MAI顯微鏡適配器
MAI顯微鏡適配器,可與任何一臺正置顯微聯用,將MProble系列測厚儀加到顯微鏡上,用于微小樣品的厚度測量,包含一個200萬像素CCD,可對測量區域進行成像。 尺寸 100mm x 40mm x 30mm 重量 0.5kg 顯微鏡接口 C型接口 相機 200萬像素 通訊 USB連接 電源 USB供電 (MAI顯微鏡適配器示意圖) (測量區域拍照,十字線中點為測量點) 我們樂意為您進行免費樣品測量,歡迎來電咨詢。 美國Semiconsoft中國總代理 上海全耀儀器設備有限公司 全國咨詢熱線:400-992-5592 Email:info@filmgauge.com.cn 上海全耀代理產品:膜厚測量儀,薄膜測試儀,膜厚儀,厚度測量儀以及MProbe MSP顯微薄膜測試儀等,歡迎廣大用戶前來訂購。
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便攜式探頭
測量曲面樣品或樣品無法移動時,需要用到特殊的探頭,這些探頭包裹一層柔性橡膠,可以直接放到樣品上面,用光纖將其與主機相連?;诓煌膽?,有三個型號可選。 MP-FLVi:用于基底較薄且透光的薄膜,需要消除背面反射 MP-RP90:用于可接受2mm光斑直徑及不需要考慮背面反射的樣品 MP-RP45:可用45度測量厚度 MP-FLVis 包含可見光聚焦鏡頭,0.4mm光斑直徑 MP-RP90 2mm光斑直徑,光譜范圍較寬 MP-RP45 包含兩個石英準直器,以45度角測量樣品 我們樂意為您進行免費樣品測量,歡迎來電咨詢。 美國Semiconsoft中國總代理 上海全耀儀器設備有限公司 全國咨詢熱線:400-992-5592 Email:info@filmgauge.com.cn 上海全耀代理產品:膜厚測量儀,薄膜測試儀,膜厚儀,厚度測量儀以及MProbe MSP顯微薄膜測試儀等,歡迎廣大用戶前來訂購。
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MProbe NIR薄膜測厚儀
采用近紅外光譜(NIR)的測厚儀可以用于測量一些可見光和紫外光無法使用的應用領域,比如在可見光范圍內有吸收的太陽能薄膜(CIGS, CdTe)可以快速的測量。 測量范圍: 100 nm -200um 波長范圍: 900 nm -2500 nm 適用于實時在線測量,多層測量,非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(超過500材料),新材料可以很容易的添加,支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等 測量指標:薄膜厚度,光學常數 界面友好強大: 一鍵式測量和分析。 實用的工具:曲線擬合和靈敏度分析,背景和變形校正,連接層和材料,多樣品測量,動態測量和產線批量處理。 (MProble NIR薄膜測厚儀系統示) 系統性能參數: 精度 <0.01nm or 0.01% 準確度 <0.2%or 1 nm 穩定性 <0.02nmor 0.03% 光斑直徑 標準3mm, 可以小至3um 樣品大小 大于1 mm 技術參數: 測量范圍 100nm-200um 精度 <0.01nmor 0.01% 準確度 <0.2%or 1 nm 穩定性 <0.02nmor 0.03% 波長范圍 NIR: 900-1700 NIRX: 900-2200 NIRX2:1550-2500nm ...
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MProbe Vis薄膜測厚儀
大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩定的被MProbe Vis測厚儀測量。比如:氧化物,氮化物,光刻膠,高分子聚合物,半導體(硅,單晶硅,多晶硅),半導體化合物(AlGaAs, InGaAs,CdTe, CIGS),硬涂層(碳化硅,類金剛石炭),聚合物涂層(聚對二甲苯,聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺)。 測量范圍: 15 nm -50um 波長范圍: 400 nm -1100 nm MProbe Vis薄膜測厚儀適用于實時在線測量,多層測量,非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(超過500材料),新材料可以很容易的添加,支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等。 測量指標:薄膜厚度,光學常數 界面友好強大: 一鍵式測量和分析。 MProbe Vis薄膜測厚儀實用的工具:曲線擬合和靈敏度分析,背景和變形校正,連接層和材料,多樣品測量,動態測量和產線批量處理。 (MProble NIR薄膜測厚儀系統示) 性能參數: 精度 <0.01nm or0.01% 準確度 <0.2% or 1 nm 穩定性 <0.02nm or 0.03% 光斑直徑 標準3mm, 可以小至3um 樣品大小 大于1 mm 案例1,300nm二氧化硅薄膜的測量: 硅晶圓反射率,測量時間10ms: 案例2,測量500nm氮化鋁,測量參數:厚度和表面粗糙...